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產(chǎn)品型號: GMSD2000/4
所屬分類:研磨分散機
更新時間:2024-10-14
簡要描述:SGN鋰電池納米二氧化鈦研磨分散機能夠?qū)崿F(xiàn)自動控制,且操作簡單方便,機器運行很穩(wěn)定。機器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到*的清洗。
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SGN鋰電池納米二氧化鈦研磨分散機能夠?qū)崿F(xiàn)自動控制,且操作簡單方便,機器運行很穩(wěn)定。機器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到*的清洗。
銳鈦礦納米二氧化鈦比表面積大,在光催化,太陽能電池,環(huán)境凈化,催化劑載體,鋰電池以及氣體傳感器等方面得到廣泛的應(yīng)用。
納米二氧化鈦具有良好的快速充放電性能和較高的容量。經(jīng)循環(huán)伏安研究表明,鋰離子在納米二氧化鈦中同時存在兩種動力學(xué)過程,即擴散控制的鋰離子嵌入-脫出國產(chǎn)和贗電容性的動力學(xué)過程,更好地釋放鋰嵌入和脫嵌過程中的應(yīng)力,提高循環(huán)壽命,這也是與納米二氧化鈦的特殊結(jié)構(gòu)相關(guān)的。由于納米二氧化鈦)具有很好的化學(xué)穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性,因此具有更廣泛的應(yīng)用范圍。
納米二氧化鈦是一種優(yōu)秀的鋰嵌入載體,插鋰電位在1.5-1.6V,形成Li0.91TiO2-B,具有優(yōu)異的可逆循環(huán)容量。有意思的是,它的比容量要優(yōu)于同種相的直徑跟納米線直徑相仿的納米粒子。
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主要技術(shù)指標(biāo):
項目 | 指標(biāo) |
型號 | DC-TiO2-003 |
納米二氧化鈦外觀 | 白色粉末 |
PH 值 | 6-8 |
水份%(105,2hr干燥失重) | ≤1.0 |
平均原級粒徑,nm | 20 |
含量,% | ≥99.9 |
比表面積 m2/g | 50-200 |
表面處理劑 | 鋰電池活化劑處理 |
應(yīng)用特點:
(1)可以有效的參雜到鈷酸鋰,錳酸鋰,磷酸鐵鋰,三元材料里面,添加量一般在0.2-0.4%。
(2)由于所使用的染料敏化劑可以在很低的光能量下達(dá)到飽和。
(3)光的利用效率高,對光線的入射角度不敏感。
(4)對光陰影不敏感。
(5)可在很寬溫度范圍內(nèi)正常工作。
(6)具有很高的光轉(zhuǎn)化率
納米二氧化鈦電池的優(yōu)點在于它廉價的成本和簡單的工藝及穩(wěn)定的性能。其光電效率穩(wěn)定在10%以上,制作成本僅為硅太陽電池的1/5~1/10.壽命能達(dá)到20年以上。
研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
GMD2000為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
研磨分散機的特點:
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設(shè)備其它參數(shù):
設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)
線速度的計算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的
GMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%