光觸媒研磨分散機(jī)

產(chǎn)品型號(hào)： GMD2000

所屬分類：研磨分散機(jī)

更新時(shí)間：2024-10-14

簡(jiǎn)要描述：光觸媒研磨分散機(jī)是高剪切膠體磨+高剪切分散機(jī)的設(shè)備，將兩者一體化，解決了時(shí)間差的問(wèn)題，因?yàn)槲锪蠄F(tuán)聚是一個(gè)瞬間的過(guò)程，研磨后立即分散，效果好，效率高。

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光觸媒是一種以納米級(jí)二氧化鈦為代表的具有光催化功能的光半導(dǎo)體材料的總稱。

光觸媒材料主要有納米TiO2、、CdS、WO3、Fe2O3、PbS、SnO2、ZnS、SrTiO3、SiO2等，2000年以來(lái)又發(fā)現(xiàn)一些納米貴金屬（鉑、銠、鈀等）具有更好的光催化性能，但由于其中大多數(shù)易發(fā)生化學(xué)或光化學(xué)腐蝕，而貴金屬成本則過(guò)高，都不適合作為家居凈化空氣用光催化劑。
           

在所有的光觸媒材料中，納米TiO2不僅具有很高的光催化活性，且具有耐酸堿腐蝕、耐化學(xué)腐蝕、無(wú)毒等優(yōu)點(diǎn)，價(jià)格也適中，具有較高的性價(jià)比，因而市場(chǎng)上大多使用納米二氧化鈦?zhàn)鳛橹饕牧稀?nbsp;

對(duì)于納米級(jí)物料的分散，容易出現(xiàn)團(tuán)聚的現(xiàn)象，納米二氧化鈦的分散也不例外。團(tuán)聚是指原生的納米粉體顆粒在制備、分離、處理及存放過(guò)程中相互連接、由多個(gè)顆粒形成較大的顆粒團(tuán)簇的現(xiàn)象。由于團(tuán)聚顆粒粒度小，表面原子比例大，比表面積大，表面能大，處于能量不穩(wěn)定狀態(tài)，因而細(xì)微的顆粒都趨向于聚集在一起，很容易團(tuán)聚，形成團(tuán)聚狀的二次顆粒，乃至三次顆粒，使粒子粒徑變大，在每個(gè)顆粒內(nèi)部有細(xì)小孔隙。

納米顆粒的團(tuán)聚一般分為兩種：軟團(tuán)聚和硬團(tuán)聚。對(duì)于軟團(tuán)聚機(jī)理，人們的看法比較*，即，軟團(tuán)聚是由納米粉體表面分子或原子之間的范德華力和靜電引力所致，由于作用力較弱，可以通過(guò)一些化學(xué)作用或施加機(jī)械能的方式來(lái)消除。

上海思峻應(yīng)對(duì)納米級(jí)物料的分散，研發(fā)出新型設(shè)備，高剪切研磨分散機(jī)，將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備，納米級(jí)漿料進(jìn)入研磨分散后，先進(jìn)行研磨將團(tuán)聚體打開(kāi)，然后再經(jīng)過(guò)分散工作組，進(jìn)行分散，避免再次團(tuán)聚。
                 

光觸媒研磨分散機(jī)是高剪切膠體磨+高剪切分散機(jī)的設(shè)備，將兩者一體化，解決了時(shí)間差的問(wèn)題，因?yàn)槲锪蠄F(tuán)聚是一個(gè)瞬間的過(guò)程，研磨后立即分散，效果好，效率高。

GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN（上海）公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

光觸媒分散機(jī)，納米光觸媒分散機(jī)，，SGN高剪切研磨分散機(jī)是納米物料分散設(shè)備中*，在多個(gè)領(lǐng)域的納米分散中都有著突出的應(yīng)用。如：納米二氧化鈦、納米二氧化硅、石墨烯、碳納米管、納米樹(shù)脂、納米涂料等！